Japan Advanced Institute of Science and Technology Nomi Ishikawa 923-1292 Japan;
ULVAC Inc. Chigasaki Kanagawa 253-8543 Japan;
ULVAC Inc. Susono Shizuoka 410-1231 Japan;
Plasmas; Ion implantation; Photovoltaic cells; Annealing; Passivation; Fabrication; Heterojunctions;
机译:研究有机/晶体硅异质结太阳能电池上织构化晶体硅上的聚(3,4-乙撑二氧噻吩):聚苯乙烯磺酸盐的化学雾沉积技术
机译:界面在具有本征薄层的N-a-Si:H / P-c-Si异质结的太阳能电池中的主导作用
机译:可逆的软接触层压和分层,用于非侵入式制造和表征体异质结和双层有机太阳能电池
机译:低成本制造背面接触结晶 - 硅杂核函数电池,其与膦部分转化的N-A-Si层(pH
机译:太阳能光伏用硅晶/有机异质结。
机译:ZnO和光敏层之间的额外PCBM层在倒置体异质结太阳能电池中的作用
机译:具有微晶硅氧化物接触层的硅异质结太阳能电池的优化非晶硅氧化物缓冲层