Mechanical Industrial and Manufacturing Engineering Department The University of Toledo, OH 43606;
CSM Instruments Needham, MA 02494;
机译:大功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在工业规模装置中沉积的CrN和TiN膜的结构和性能
机译:直流磁控溅射沉积WB2 / CRN膜结构和力学性能的调节比率的影响
机译:调节期对直流磁控溅射沉积WB2 / CRN膜结构和力学性能的影响
机译:磁控溅射法沉积CRN薄膜的力学性能
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
机译:磁控溅射沉积CRN薄膜结构,力学性能和腐蚀行为的温度效应