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范迪; 雷浩; 郭朝乾; 宫骏; 孙超;
中国科学院金属研究所材料表面工程研究部;
多层膜; 调制周期; 磁控溅射; 硬度; 结合力; WB2;
机译:调制结构对高功率脉冲磁控溅射制备的TiAlsin / CrN薄膜微结构和力学性能的影响
机译:调制周期和调制比对多弧离子镀TiBN / CrN涂层结构和力学性能的影响
机译:双层周期和不平衡度对磁控溅射Cr / CrN纳米多层膜磨损和腐蚀的影响
机译:周期和不平衡程度对Cr / CrN磁控溅射纳米多层膜结构和电阻率的影响
机译:多层周期性对氮化铝钛/氮化铬薄膜的织构,形态,化学稳定性和加工性能的影响。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:磁控溅射沉积CRN薄膜结构,力学性能和腐蚀行为的温度效应
机译:厚度和波长对组分调制陶瓷薄膜力学性能的影响
机译:通过在工具表面沉积TiAlCrN多层薄膜,金属Cr层和CrN薄膜,在表面涂覆硬质合金,具有出色的耐磨性和润滑特性
机译:周期性逆电解法和薄膜电路板,薄膜多层电路板及电子电路装置的薄膜电路的制造
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
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