University of Kassel, Institute of Technical Physics, Heinrich-Plett-Str. 40, 34109 Kassel, Germany;
机译:通过不同ICP-CVD技术制备的富氮CN_x膜的比较表征
机译:近场不平衡磁控溅射制备CN_x薄膜的表征
机译:激光烧蚀技术合成CN_X薄膜的表征
机译:不同ICP-CVD技术制备的富含氮CN_X薄膜的比较表征
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:新型大气压等离子体聚合技术制备的纳米纤维聚苯胺薄膜的合成与表征
机译:电子回旋共振等离子体技术生长氮富硅氮化硅膜的特征