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Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece
Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece
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1.
Room temperature deposition of GeO_2 thin film using dielectric barrier discharge driven excimer lamps
机译:
使用介电势垒放电驱动的准分子灯在室温下沉积GeO_2薄膜
作者:
Y. Maezono
;
H. Yanagita
;
K. Nishi
;
J.-I. Miyano
;
A. Yokotani
;
K. Kurosawa
;
N. Hishinuma
;
H. Matsuno
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
2.
Single source MOCVD system for deposition of superconducting films onto moved tapes
机译:
单源MOCVD系统,用于将超导薄膜沉积到移动的磁带上
作者:
O. Stadel
;
J. Schmidt
;
N.V. Markov
;
S.V. Samoilenkov
;
G. Wahl
;
C
;
Jimenez
;
F. Weiss
;
D. Selbmann
;
J. Eickemeyer
;
O.Yu. Gorbenko
;
A.R. Kaul
;
A. Abrutis
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
3.
Study of SiO_2-films deposited by adding N_2O or O_2 to TEOS in photo-chemical vapor deposition at room temperature
机译:
室温下在光化学汽相沉积中向TEOS中添加N_2O或O_2到SiO_2膜上的研究
作者:
Y. Motoyama
;
J.-I. Miyano
;
K. Toshikawa
;
Y. Yagi
;
H. Yanagida
;
K. Kurosawa
;
A. Yokotani
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
4.
Advances in the use of MOCVD methods for the production of novel photonic bandgap materials
机译:
MOCVD方法在生产新型光子带隙材料中的应用进展
作者:
D.E. Whitehead
;
M.E. Pemble
;
H.M. Yates
;
A. Blanco
;
C. Lopez
;
H. Miguez
;
F.J. Meseguer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
5.
Thermodynamic modelling of the chemical vapour deposition of boron nitride in the B-N-H-He-O system
机译:
B-N-H-He-O系统中氮化硼化学气相沉积的热力学模型
作者:
A.N. Golubenko
;
M.L. Kosinova
;
F.A. Kuznetsov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
6.
Thermodynamic, kinetic and mass transport calculations, as the basis for materials processing by CVD
机译:
热力学,动力学和传质计算,作为通过CVD处理材料的基础
作者:
C. Bernard
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
7.
Tow-dimensional simulation of a pulsed-power electronegative discharge
机译:
脉冲功率负电放电的二维模拟
作者:
B. Ramamurthi
;
D.J. Economou
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
8.
The role of atomic surface structure in the metalorganic chemical vapor deposition of III-V compound semiconductors
机译:
原子表面结构在III-V型化合物半导体的金属有机化学气相沉积中的作用
作者:
R.F. Hicks
;
Q. Fu
;
L. Li
;
S.B. Visbeck
;
Y. Sun
;
C.H. Li
;
D.C. Law
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
9.
The growth kinetics study of CVD Cu on TiN barriers
机译:
TiN势垒上CVD Cu的生长动力学研究
作者:
W. Pan
;
D.R. Evans
;
R. Barrowcliff
;
S.T. Hsu
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
10.
Synthesis of nanocomposite Pd balls and wires by chemical vapor infiltration
机译:
化学气相渗透法合成纳米复合钯球和线
作者:
K.-B. Lee
;
C.-S. Choi
;
S.J. Oh
;
H.-C. Ri
;
J. Cheon
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
11.
Spouted bed metallorganic chemical vapor deposition of ruthenium on NiCoCrAIYTa powders
机译:
NiCoCrAlYTa粉末上喷镀床金属有机化学气相沉积钌
作者:
F. Juarez
;
A. Castillo
;
B. Pieraggi
;
C. Vahlas
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
12.
Structure and composition investigation of RPECVD SiCN and LPCVD BCN films
机译:
RPECVD SiCN和LPCVD BCN膜的结构和成分研究
作者:
Ml. Kosinova
;
N.I. Fainer
;
Yu.M. Rumyantsev
;
M. Terauchi
;
K. Shibata
;
F. Satoh
;
M. Tanaka
;
F.A. Kuznetsov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
13.
The development of MOCVD techniques for ferroelectric and dielectric thin film depositions
机译:
用于铁电和介电薄膜沉积的MOCVD技术的发展
作者:
T. Li
;
ST. Hsu
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
14.
Thermal barrier coatings
机译:
隔热涂料
作者:
G. Wahl
;
Ch. Metz
;
S. Samoilenkov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
15.
Thermodynamic and kinetic criteria to select hydrocarbon precursor
机译:
选择烃前体的热力学和动力学标准
作者:
S. de Persis
;
F. Teyssandier
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
16.
Thermodynamic and experimental study of low temperature ZrB_2 chemical vapor deposition
机译:
ZrB_2低温化学气相沉积的热力学和实验研究
作者:
J.F. Pierson
;
T. Belmonte
;
H. Michel
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
17.
Low frequency PACVD of silicon-carbon alloys: Process study
机译:
硅碳合金的低频PACVD:工艺研究
作者:
L Thomas
;
J.M. Badie
;
E. Tomasella
;
M. Ducarroir
;
R. Berjoan
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
18.
Perovskite heterostructures grown by MOCVD
机译:
MOCVD生长的钙钛矿异质结构
作者:
O.Yu. Gorbenko
;
I.E. Graboy
;
M.A. Novozhilov
;
A.R. Kaul
;
G. Wahl
;
V.L. Svetchnikov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
19.
Photodegradative properties of TiO_2 films prepared by MOCVD
机译:
MOCVD法制备TiO_2薄膜的光降解性能
作者:
I. Justicia
;
J.A. Ayllon
;
A. Figueras
;
G.A. Battiston
;
R. Gerbasi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
20.
Preparation and optical study of APCVD mixed metal oxide films
机译:
APCVD混合金属氧化物薄膜的制备和光学研究
作者:
T. Ivanova
;
K.A. Gesheva
;
A. Szekeres
;
A. Maksimov
;
S. Zaitzev
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
21.
Plasma enhanced decomposition of propylene on activated carbon fibers
机译:
等离子增强丙烯在活性炭纤维上的分解
作者:
T. Orfanoudaki
;
I. Dolios
;
S. Korili
;
P. Samaras
;
N. Platakis
;
G.P. Sakellaropoulos
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
22.
Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition from alkylsilane and alkylcarbosilane single-sources: Mechanism of the process and properties of resulting silicon-carbon deposits
机译:
从烷基硅烷和烷基碳硅烷单源进行远程氢等离子体化学气相沉积:形成硅碳沉积物的过程机理和性质
作者:
A.M. Wrobel
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
23.
Reactive pack-cementation coating of silicon carbide on carbon-carbon composite
机译:
碳-碳复合材料上碳化硅的反应性堆积水泥涂层
作者:
O. Paccaud
;
A. Derre
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
24.
Molecular magnets and conductors on surfaces
机译:
表面上的分子磁体和导体
作者:
H. Casellas
;
D. de Caro
;
L. Valade
;
L. Aries
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
25.
In situ mass spectrometry during thermal CVD of the fr/s-acetylacetonates of 3-d transition metals
机译:
3-d过渡金属的fr / s-乙酰丙酮化物热CVD期间的原位质谱
作者:
P.P. Semyannikov
;
I.K. Igumenov
;
S.V. Trubin
;
I.P. Asanov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
26.
Low pressure chemical vapor deposition of silicon oxynitride films using tetraethylorthosilicate, dichlorosilane and ammonia mixtures
机译:
使用原硅酸四乙酯,二氯硅烷和氨气混合物对氮氧化硅膜进行低压化学气相沉积
作者:
V.Em. Vamvakas
;
R. Berjoan
;
S. Schamm
;
D. Davazoglou
;
C. Vahlas
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
27.
Metal and oxide thin film MO CVD as a base for nanostructure and superlattice formation
机译:
金属和氧化物薄膜MO CVD作为纳米结构和超晶格形成的基础
作者:
V.V. Bakovets
;
N.V. Gelfond
;
V.N. Mitkin
;
T.M. Levashova
;
I.P. Dolgovesova
;
V.T. Ratushnjak
;
V.G. Martynets
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
28.
MOCVD of rhenium-containing complex oxides with the new thd-precursor
机译:
新型th前驱体对含rh复合氧化物的MOCVD
作者:
O.Yu. Gorbenko
;
S.I. Troyanov
;
A.A. Zakharov
;
A.A. Bosak
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
29.
MOCVD of Ag thin films
机译:
Ag薄膜的MOCVD
作者:
S. Paramonov
;
S. Samoilenkov
;
S. Papucha
;
I. Malkerova
;
A. Alikhanyan
;
N. Kuzmina
;
S.I. Troyanov
;
A.R. Kaul
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
30.
Nanocrystalline silicon quantum dots prepared by VHF plasma enhanced chemical vapor deposition
机译:
通过VHF等离子体制备的纳米晶硅量子点增强了化学气相沉积
作者:
S. Oda
;
K. Nishiguchi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
31.
Low pressure chemical vapor deposition of Cu_xS
机译:
Cu_xS的低压化学气相沉积
作者:
B. Meester
;
L. Reijnen
;
F. de Lange
;
A. Goossens
;
J. Schoonman
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
32.
MO CVD obtaining composite coatings from metal of platinum group on titanium electrodes
机译:
MO CVD从钛电极上的铂族金属获得复合涂层
作者:
N.V. Gelfond
;
P.S. Galkin
;
I.K. Igumenov
;
N.B. Morozova
;
N.E. Fedotova
;
G.I. Zharkova
;
Yu.V. Shubin
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
33.
New volatile polyazolylborates of copper(I) for MOCVD
机译:
用于MOCVD的新型铜(I)挥发性聚偶氮唑硼酸盐
作者:
A. Drozdov
;
S.I. Troyanov
;
C. Pettinari
;
F. Marchetti
;
C. Santini
;
R. Pettinari
;
G.A. Battiston
;
R. Gerbasi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
34.
A study of morphology and texture of LPCVD germanium-silicon films
机译:
LPCVD锗硅薄膜的形貌和织构研究
作者:
A. Kovalgin
;
J. Holleman
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
35.
Formation of cubic SiC nanocrystals by laser-assisted CVD
机译:
激光辅助CVD形成立方SiC纳米晶体
作者:
Y. Kamlag
;
A. Goossens
;
I. Colbeck
;
J. Schoonman
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
36.
Growth of Ru and RuO_2 films by metal-organic chemical vapour deposition
机译:
金属有机化学气相沉积法生长Ru和RuO_2薄膜
作者:
F. Froehlich
;
D. Machajdik
;
V. Cambel
;
J. Fedor
;
A. Pisch
;
J. Lindner
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
37.
Growth of InN whiskers from single source precursor
机译:
单源前驱体生长InN晶须
作者:
A. Devi
;
H. Parala
;
W. Rogge
;
A. Wohlfart
;
A. Birkner
;
R.A. Fischer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
38.
Effect of double-layers formation on the deposition of microcrystalline silicon films in hydrogen diluted silane discharges
机译:
氢稀释的硅烷放电中双层形成对微晶硅膜沉积的影响
作者:
A. Hammad
;
E. Amanatides
;
D.E. Rapakoulias
;
D. Mataras
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
39.
Insights into the MOCVD process of GaN using single-source precursors. Matrix isolation: A powerful technique
机译:
对使用单源前驱物的GaN的MOCVD工艺的见解。矩阵隔离:一项强大的技术
作者:
J. Mueller
;
B. Wittig
;
H. Sternkicker
;
S. Bendix
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
40.
GeO_2 and SiO_2 thin film preparation with CVD using ultraviolet excimer lamps
机译:
紫外准分子灯CVD法制备GeO_2和SiO_2薄膜
作者:
K. Kurosawa
;
Y. Maezono
;
J.-I. Miyano
;
T. Motoyama
;
A. Yokotani
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
41.
Gas-phase stability of c-BN clusters
机译:
c-BN团簇的气相稳定性
作者:
K. Larsson
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
42.
Kinetic modelling of gas-phase decomposition of propane: Correlation with pyrocarbon deposition
机译:
丙烷气相分解的动力学模型:与热碳沉积的关系
作者:
B. Descamps
;
G.L. Vignoles
;
O. Feron
;
J. Lavenac
;
F. Langlais
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
43.
Investigation of composition, optical and electrophysical properties of tin dioxide films made by oxidative pyrolysis of tetraethyltin
机译:
四乙基锡的氧化热解法制备二氧化锡薄膜的组成,光学和电物理性质
作者:
B. Kozyrkin
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
44.
Influence of hydrogen on chemical beam epitaxy of GaAs using triethylgallium and diethylarsine
机译:
氢对三乙基镓和二乙基ar的GaAs化学束外延的影响
作者:
F. Maury
;
E. Bedel-Pereira
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
45.
Nanophased ZrO_2-CeO_2 or TiO_2-ZrO_2-CeO_2 films by CVD as catalysts for hydrocarbon complete combustion
机译:
CVD法纳米ZrO_2-CeO_2或TiO_2-ZrO_2-CeO_2薄膜作为烃类完全燃烧的催化剂
作者:
D. Barreca
;
G.A. Battiston
;
U. Casellato
;
R. Gerbasi
;
E. Roncari
;
E. Tondello
;
P. Zanella
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
46.
Nanoscale cobalt oxides thin films obtained by CVD and sol-gel routes
机译:
通过CVD和溶胶-凝胶法获得的纳米级氧化钴薄膜
作者:
L. Armelao
;
D. Barreca
;
S. Gross
;
E. Tondello
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
47.
Development of SiN_x LPCVD processes for microtechnological applications
机译:
开发用于微技术应用的SiN_x LPCVD工艺
作者:
B. Rousset
;
L. Furgal
;
P. Fadel
;
A. Fulop
;
D. Pujos
;
P. Temple-Boyer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
48.
Effect of the precursors on the deposition of (Ba, Sr)TiO_3 films
机译:
前驱物对(Ba,Sr)TiO_3薄膜沉积的影响
作者:
J.-H. Lee
;
W.-Y. Yang
;
S.-W. Rhee
;
D. Kim
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
49.
Coating of continuous carbon fibers with double layers by chemical vapor deposition
机译:
通过化学气相沉积法将连续碳纤维双层涂覆
作者:
N. Popovska
;
S. Schmidt
;
E. Edelmann
;
V.K. Wunder
;
H. Gerhard
;
G. Emig
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
50.
Characterization of a solvant-free vapour source for MOCVD
机译:
MOCVD的无溶剂蒸气源的表征
作者:
C. Jimenez
;
H. Guillon
;
B. Pierret
;
O. Stadel
;
J. Schmidt
;
U. Krause
;
G. Wahl
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
51.
Carbon nanotubes by CVD and applications
机译:
CVD法碳纳米管及其应用
作者:
A. Cassell
;
L. Delzeit
;
C. Nguyen
;
R. Stevens
;
J. Han
;
M. Meyyappan
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
52.
Deposition of Cr, Al coatings on Ni by means of a PB and FB CVD process
机译:
通过PB和FB CVD工艺在Ni上沉积Cr,Al涂层
作者:
C. Christoglou
;
G.N. Angelopoulos
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
53.
Area selective OMCVD of gold and palladium on self-assembled organic monolayers: Control of nucleation sites
机译:
自组装有机单层上金和钯的区域选择性OMCVD:成核位点的控制
作者:
R.A. Fischer
;
U. Weckenmann
;
C. Winter
;
J. Kaeshammer
;
V. Scheumann
;
S. Mittler
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
54.
Characterisation of LPCVD silicon oxynitride films by optical spectroscopy
机译:
LPCVD光谱法表征LPCVD氮氧化硅薄膜
作者:
M. Bercu
;
C. Cobianu
;
M. Modreanu
;
B.N. Bercu
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
55.
Composition, morphology and particle size control in nanocrystalline iron oxide films grown by single-source CVD
机译:
单源CVD生长的纳米氧化铁薄膜的组成,形貌和粒径控制
作者:
S. Mathur
;
M. Veith
;
V. Sivakov
;
H. Shen
;
H.-B. Gao
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
56.
Diagnostics of TiN coatings process in pulsed D.C plasma enhanced chemical vapor deposition
机译:
脉冲直流等离子体增强化学气相沉积中TiN涂层工艺的诊断
作者:
S. Ma
;
K. Xu
;
V. Ji
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
57.
Density functional study on the adsorption of DMAH on hydrogen terminated Si(111) surfaces
机译:
氢封端的Si(111)表面吸附DMAH的密度泛函研究
作者:
T. Matsuwaki
;
T. Nakajima
;
K. Yamashita
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
58.
Computational design and analysis of MOVPE reactors
机译:
MOVPE反应器的计算设计与分析
作者:
R.P. Pawlowski
;
A.G. Salinger
;
L.A. Romero
;
J.N. Shadid
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
59.
Characterization of low-dielectric constant SiOCN films synthesized by low pressure chemical vapour deposition
机译:
低压化学气相沉积合成低介电常数SiOCN薄膜的表征
作者:
L.M. Zambov
;
B. Ivanov
;
C. Popov
;
G. Georgiev
;
I. Stoyanov
;
D.B. Dimitrov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
60.
Al_2O_3 growth optimisation using aluminium dimethylisopropoxide as precursor as a function of reaction conditions and reacting gases
机译:
根据反应条件和反应气体,使用二甲基异丙醇铝作为前驱体优化Al_2O_3的生长
作者:
D. Barreca
;
G.A. Battiston
;
G. Carta
;
R. Gerbasi
;
G. Rossetto
;
E. Tondello
;
P. Zanella
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
61.
Photon assisted CVD
机译:
光子辅助CVD
作者:
K. Piglmayer
;
M. Boman
;
M. Lindstam
;
R. Chabicovsky
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
62.
Growth of porous columnar α-GaN layers on c-plane Al_2O_3 by MOCVD using Bisazido dimethylaminopropyl gallium as single source precursor
机译:
以Bisazido二甲基氨基丙基镓为单源前驱体通过MOCVD在c平面Al_2O_3上生长多孔柱状α-GaN层
作者:
A. Wohlfart
;
A. Devi
;
F. Hipler
;
H.W. Becker
;
R.A. Fischer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
63.
Yttrium containing aluminide layers
机译:
含钇铝化物层
作者:
Ch. Metz
;
G. Wahl
;
P. Bianchi
;
M. Innocenti
;
D. Baxter
;
N. Archer
;
R. Wing
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
64.
Simulation of the large-area growth of homoepitaxial 4H-SiC by chemical vapor deposition
机译:
化学气相沉积法模拟同质外延4H-SiC的大面积生长
作者:
M. Pons
;
J. Meziere
;
J.M. Dedulle
;
S. Wan Tang Kuan
;
E. Blanquet
;
C. Bernard
;
P. Ferret
;
L. Di Cioccio
;
T. Billon
;
R. Madar
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
65.
Selective area deposition of titanium dioxide thin films by light induced chemical vapour deposition
机译:
光诱导化学气相沉积法选择性沉积二氧化钛薄膜
作者:
E. Halary-Wagner
;
P. Lambelet
;
G. Benvenuti
;
P. Hoffmann
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
66.
Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD
机译:
通过等离子体增强CVD生产的用于软X射线光学器件的氧化硅纳米层
作者:
F. Hamelmann
;
A. Aschentrup
;
J. Schmalhorst
;
U. Kleineberg
;
U. Heinzmann
;
K. Dittmar
;
P. Jutzi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
67.
Structural properties of (La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3/SrTiO_3)_(15) superlattices prepared by pulsed injection-MOCVD
机译:
(La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3 / SrTiO_3) _(15)脉冲注入-MOCVD制备的超晶格的结构性质
作者:
M. Rosina
;
C. Dubourdieu
;
F. Weiss
;
J.P. Senateur
;
K. Froehlich
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
68.
Structural and morphological changes in low temperature annealed LPCVD Si layers
机译:
低温退火LPCVD Si层的结构和形态变化
作者:
B. Cobianu
;
M. Modreanu
;
M. Danila
;
R. Gavrila
;
M. Bercu
;
M. Gartner
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
69.
Room temperature SiO_2 films deposited by multipolar ECR PECVD
机译:
多极ECR PECVD沉积室温SiO_2薄膜
作者:
G. Isai
;
A. Kovalgin
;
J. Holleman
;
P. Woerlee
;
H. Wallinga
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
70.
RMPECVD of silica films with a high microwave power (1600 W) parametric studies
机译:
具有高微波功率(1600 W)参数研究的二氧化硅薄膜的RMPECVD
作者:
P. Tristant
;
J. Desmaison
;
F. Naudin
;
D. Merle
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
71.
Structure study of thin RPECVD Cd_xZn_(1-x)S films
机译:
RPECVD Cd_xZn_(1-x)S薄膜的结构研究
作者:
N.I. Fainer
;
M.L. Kosinova
;
Yu.M. Rumyantsev
;
E.A. Maximovski
;
M. Terauchi
;
K. Shibata
;
F. Satoh
;
M. Tanaka
;
N.P. Sysoeva
;
F.A. Kuznetsov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
72.
Advances in chemically vapour deposited wear resistant coatings
机译:
化学气相沉积耐磨涂层的研究进展
作者:
S. Ruppi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
73.
Synthesis of hexagonal boron nitride thin films by a plasma assisted chemical vapor deposition method
机译:
等离子体辅助化学气相沉积法合成六方氮化硼薄膜
作者:
P. Thevenin
;
A. Soltani
;
A. Bath
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
74.
Synthesis of GaN particles in porous matrices by chemical vapor infiltration of single molecule precursors
机译:
通过化学气相渗透单分子前体在多孔基质中合成GaN颗粒
作者:
H. Parala
;
A. Devi
;
W. Rogge
;
A. Birkner
;
R.A. Fischer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
75.
Advances in copper CVD for the semiconductor industry
机译:
半导体行业铜CVD的进展
作者:
J.A.T. Norman
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
76.
Synthesis and characterization of carbon nanotubes
机译:
碳纳米管的合成与表征
作者:
J.B. Nagy
;
A. Fonseca
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
77.
Tin oxide APCVD thin films grown by SnCl_4 oxidation on glass and Si substrates in a cold wall reactor
机译:
通过SnCl_4氧化在冷壁反应器中的玻璃和Si衬底上生长的氧化锡APCVD薄膜
作者:
A. Koutsogianni
;
D. Tsamakis
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
关键词:
tin-oxide (SnO_2);
chemical vapor deposition (CVD);
thin films;
electrical resistivity;
gas sensors;
cold wall reactor;
78.
Treatment of polyethylene terephthalate in a He glow discharge
机译:
He辉光放电中聚对苯二甲酸乙二醇酯的处理
作者:
D.D. Papakonstantinou
;
D. Mataras
;
F. Arefi-Khonsari
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
79.
Transition and rare earth metal fluorides as thermal sources of atomic and molecular fluorine
机译:
过渡和稀土金属氟化物作为原子和分子氟的热源
作者:
J.V. Rau
;
N.S. Chilingarov
;
M.S. Leskiv
;
V.F. Sukhoverkhov
;
V. Rossi Albertini
;
L.N. Sidorov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
80.
Synthesis of siloxy- and alkoxy-substituted ZnO-aggregates for CVS of ZnO
机译:
用于CVS的ZnO的硅烷氧基和烷氧基取代的ZnO聚集体的合成
作者:
R. Schoenen
;
K. Merz
;
S. Rell
;
M. Driess
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
81.
Volatility studies on single source precursors for LaNiO_3 film deposition: Mass spectrometry and thermal analysis
机译:
LaNiO_3薄膜沉积的单一来源前体的挥发性研究:质谱和热分析
作者:
N. Kuzmina
;
I. Malkerova
;
M. Ryazanov
;
A. Alikhanyan
;
A. Rogachev
;
A.N. Gleizes
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
82.
Wear behavior of PACVD tin coatings deposited onto tool steels
机译:
沉积在工具钢上的PACVD锡涂层的磨损行为
作者:
M. Stoiber
;
G. Fontalvo
;
M. Panzenbbck
;
C. Mitterer
;
C. Lugmair
;
R. Kullmer
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
83.
Thermal conversions of some Ba, Sr, Ti oxide precursors for CVD
机译:
某些Ba,Sr,Ti氧化物前驱体用于CVD的热转化
作者:
A.E. Turgambaeva
;
I.K. Igumenov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
84.
Vapor pressure of precursors for CVD on the base of platinum group metals
机译:
基于铂族金属的CVD前体的蒸气压
作者:
N.B. Morozova
;
G.I. Zharkova
;
P.P. Semyannikov
;
S.V. Sysoev
;
I.K. Igumenov
;
N.E. Fedotova
;
N.V. Gelfond
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
85.
Unique precursor delivery and control afforded by low-pressure pulsed-CVD process with ultrasonic atomization
机译:
低压脉冲CVD工艺和超声雾化提供独特的前驱物输送和控制
作者:
S. Krumdieck
;
O. Sbaizero
;
R. Raj
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
86.
Organic chemistry by CVD
机译:
CVD有机化学
作者:
L. He
;
M.L. Hitchman
;
S.H. Shamlian
;
S.E. Alexandrov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
87.
Processing of (PyC/TiC)_n multilayered coatings by pulsed CVD and RCVD
机译:
通过脉冲CVD和RCVD处理(PyC / TiC)_n多层涂层
作者:
O. Rapaud
;
H. Vincent
;
C. Vincent
;
S. Jacques
;
J. Bouix
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
88.
Properties of thin AIN films prepared by PECVD and rapid thermal processes
机译:
通过PECVD和快速热处理制备的AIN薄膜的性能
作者:
G.D. Beshkov
;
S.S. Georgiev
;
K.G. Grigorov
;
H.S. Maciel
;
A. Djouadi
;
M. Marinov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
89.
Modification of activated carbon fiber pore structure by coke deposition
机译:
焦炭沉积对活性炭纤维孔结构的改性
作者:
X. Dabou
;
P. Samaras
;
G.P. Sakellaropoulos
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
|
2001年
90.
Modelling of silica film growth by chemical vapour deposition: Influence of the interface properties
机译:
通过化学气相沉积对二氧化硅膜的生长进行建模:界面特性的影响
作者:
L.Vazquez
;
F. Ojeda
;
R. Cuerno
;
R. Salvarezza
;
J.M. Albella
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
91.
High-performance In_(0.49)Ga_(0.51)P/InGaAs single and double delta-doped pseudomorphic high electron mobility transistors (δ-PHEMT's)
机译:
高性能In_(0.49)Ga_(0.51)P / InGaAs单和双δ掺杂拟态高电子迁移率晶体管(δ-PHEMT)
作者:
W.-C. Liu
;
K.-W. Lin
;
K.-H. Yu
;
W.-L. Chang
;
C.-C. Cheng
;
C.-K. Wang
;
H.-M. Chang
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
92.
MOCVD of lead-containing perovskites
机译:
含铅钙钛矿的MOCVD
作者:
A.A. Bosak
;
A.N. Botev
;
O.Yu. Gorbenko
;
I.E. Graboy
;
S.V. Samoilenkov
;
A.R. Kaul
;
C. Dubourdieu
;
J.-P. Senateur
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
93.
Multiscale approach to material synthesis by gas phase deposition
机译:
通过气相沉积进行材料合成的多尺度方法
作者:
M. Masi
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
94.
MOCVD grown InGaP/GaAs camel-like field-effect transistor for high-breakdown and high-temperature operations
机译:
MOCVD生长的InGaP / GaAs骆驼状场效应晶体管,用于高击穿和高温操作
作者:
W.-C. Liu
;
K.-H. Yu
;
K.-W. Lin
;
K.-P. Lin
;
C.-H. Yen
;
C.-C. Cheng
;
C.-K. Wang
;
H.-M. Chuang
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
95.
MOCVD grown InGaP/GaAs multiple negative-differential-resistance (MNDR) resonant-tunneling bipolar transistors
机译:
MOCVD生长的InGaP / GaAs多重负微分电阻(MNDR)谐振隧道双极晶体管
作者:
W.-C. Liu
;
H.-J. Pan
;
C.-H. Yen
;
K.-P. Lin
;
C.-Z. Wu
;
W.-H. Chiou
;
C.-Y. Chen
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
96.
MOCVD of antimony oxides for gas sensor applications
机译:
用于气体传感器应用的氧化锑的MOCVD
作者:
P.W. Haycock
;
G.A. Horley
;
K.C. Molloy
;
C.P. Myers
;
S.A. Rushworth
;
L.M. Smith
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
97.
A TCAD tool for the simulation of the CVD process based on cellular automata
机译:
TCAD工具,用于基于细胞自动机模拟CVD过程
作者:
G.Ch. Sirakoulis
;
I. Karafyllidis
;
A. Thanailakis
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
98.
(HFA)Cu · 1,5-COD as the prospective precursor for CVD-technologies: The electronic structure, thermodynamical properties and process of formation of thin copper films
机译:
(HFA)Cu·1,5-COD作为化学气相沉积技术的前身:电子结构,热力学性质和薄铜膜的形成过程
作者:
T.I. Liskovskaya
;
L.G. Bulusheva
;
A.V. Okotrub
;
S.A. Krupoder
;
P.P. Semyannikov
;
I.P. Asanov
;
I.K. Igumenov
;
A.V. Manaev
;
V.F. Traven
;
A.G. Cherkov
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
99.
Nucleation and growth of silicon on ceramic substrates by RTCVD at atmospheric pressure
机译:
大气压下通过RTCVD在陶瓷衬底上硅的成核和生长
作者:
A. Slaoui
;
S. Bourdais
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
100.
Nanocrystalline ZnO from siloxy-substituted single-source precursors
机译:
甲硅烷氧基取代的单源前驱体的纳米ZnO
作者:
K. Merz
;
R. Schoenen
;
M. Driess
会议名称:
《Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Aug 26-31, 2001, Glyfada, Athens, Greece》
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2001年
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