Institute of Electro-Optical Engineering, National Chiao-Tung University, Taiwan, R.O.C.;
Department of Photonics Display Institute, National Chiao-Tung University, Taiwan, R.O.C.;
Department of Photonics Display Institute, National Chiao-Tung University, Taiwan, R.O.C.;
Department of Photonics Display Institute, National Chiao-Tung University, Taiwan, R.O.C.;
Department of Materials Science Engineering, National Tsing-Hua University;
机译:用于LCD的高可靠性和可加工性的a-Si TFT的溶液处理钝化层
机译:自热效应对柔性基板上低温a-Si:H TFT的偏置应力可靠性的影响
机译:机械弯曲产生的重新分布的深层状态,以改善柔性基板上的a-Si:H TFT的电气可靠性
机译:钝化层对柔性A-Si:H TFT的可靠性的影响
机译:环境应力对柔性和标准端接多层陶瓷电容器可靠性的影响。
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:采用新型双光掩模自对准工艺制造的聚四氟乙烯/二氧化硅双层钝化,提高氧化物薄膜的电气可靠性
机译:a-si:H TFTs中的阈值电压不稳定性及其对柔性显示器和电路的影响