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【24h】

Formation of GaAs hollow above InAs quantum dots

机译:在InAs量子点上方形成GaAs空心

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摘要

GaAs hollow nanostructure is constructed above low-temperature (250℃) InAs quantum dots after a thin GaAs layer capping at 480℃. The hollows mostly disappeared after the high temperature annealing at 580℃. The formation mechanism is simply discussed.
机译:GaAs中空纳米结构是在480℃的薄GaAs层覆盖后在低温(250℃)InAs量子点之上构建的。 580℃高温退火后,空心消失了。简单讨论了形成机理。

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