Mechanical Engineering, Iowa Stale University, Ames, Iowa;
机译:通过将压力和速度作为控制变量的化学机械平面化(CMP)中台阶高度不均匀性的最小化来提高产量
机译:用于亚纳米表面处理的化学机械平面化(CMP)的台阶高度去除机制
机译:用于化学机械平面化(CMP)的分析凹陷和台阶高度减小模型
机译:通过最小化化学机械平面素(CMP)的步进高度不均匀性产生改善(CMP)
机译:化学机械平面化工艺的产量提高。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:化学机械平面化工艺的产量提高