Department of Materials Science Engineering Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, Korea;
机译:Ar〜+离子束溅射刻蚀制备Si(001)衬底的形貌演化
机译:沉积在MgO(001)衬底上的InTaO4薄膜的初始生长阶段以及通过部分覆盖有片状Ta靶的Ar离子束溅射辅助O-2-离子束
机译:低能氩离子束溅射下多晶金和银薄膜表面的波纹形貌和粗糙度演变
机译:由Ar〜+离子束溅射蚀刻制造的Si(001)衬底的地形演变
机译:通过溅射沉积在硅(001)衬底上沉积的金薄膜的表面形态。
机译:生物模板与中性束刻蚀相结合制造的三维硅量子点超晶格中高光电流的产生
机译:ar +束溅射对mgO(001)衬底上Fe薄膜磁各向异性的影响