University of Bremen, Institute of Solid State Physics, Semiconductor Epitaxy, 28359 Bremen, Germany;
机译:高性能基于GaN的发光二极管的蓝宝石衬底处理:蓝宝石衬底的微图案化及其对基于GaN的发光二极管中光增强的影响
机译:错切蓝宝石衬底上生长的具有自然织构的p-GaN接触层的GaN基发光二极管的静电放电性能研究
机译:在具有高密度纳米坑的蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜和基于GaN的发光二极管,它们在原位金属有机气相外延反应器中形成
机译:蓝宝石和GaN基材上生长的GaN的发光器件的比较研究
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:通过共焦拉曼光谱和光致发光光谱法对图案化蓝宝石衬底上生长的GaN基发光二极管进行三维表征
机译:研究在具有V形凹坑粗糙表面的化学湿法蚀刻图案化蓝宝石衬底上生长的GaN基发光二极管