University of Illinois, Department of Materials Science and Engineering, Urbana, IL 61801;
机译:结合X射线散射法研究超低能离子注入硅的结构性质
机译:倾斜照射选择区域电子衍射法测量纯离子注入非晶硅的高分辨率径向分布函数
机译:压痕诱导相变与离子注入非晶硅弛豫程度的相关性
机译:通过可变相干温度研究的离子植入的非晶硅
机译:离子注入非晶硅中程范围的波动电子显微镜。
机译:勘误:原位TEM研究石墨烯包裹的硅纳米颗粒的电化学锂化/脱锂动力学
机译:瞬态光栅技术研究非晶硅/非晶碳化硅多层膜中的载流子传输特性
机译:离子注入和沉积非晶硅薄膜中固相结晶动力学