Electrotechnical Laboratory, 1-1-4 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
机译:使用电子束诱导沉积技术的在线纳米光刻
机译:电子束辐照固体中的二次电子生成:纳米光刻的分辨率极限
机译:电子束纳米光刻技术制备尺寸精确的硅单电子晶体管
机译:通过电子束抗芯修剪技术通过电子纳米光刻
机译:使用蒸发的电子束抗蚀剂在非平面表面上开发高分辨率纳米光刻技术。
机译:全面皮肤电子照射-电子束仍不可替代的技术
机译:使用扫描探针显微镜悬臂上的电子束抗蚀剂上的纳米光刻
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制