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Controllability and homogeneity of optical properties of thin porous silicon films

机译:多孔硅薄膜光学特性的可控性和均匀性

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摘要

Reflection spectroscopy was applied to evaluate the optical homogeneity and the refractive index of thin porous silicon (PS) layer. Variation in PS layer optical thickness was evaluated by measuring and mapping the reflectance over the surface area. For the circular anodization area of 17 mm diameter, the measured variation was less than 5
机译:反射光谱法用于评估薄多孔硅(PS)层的光学均匀性和折射率。通过测量和绘制表面积上的反射率来评估PS层光学厚度的变化。对于直径为17 mm的圆形阳极氧化区域,测得的变化小于5

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