Materials Science and Engineering, Stanford University, Stanford, CA 94305, U.S.A.;
机译:用于下一代纳米器件的Hf和Zr硅酸盐和铝酸盐高k栅极电介质的原子层化学气相沉积(ALCVD)
机译:Hf和Zr硅酸盐和铝酸盐高k栅极电介质的原子层化学气相沉积(ALCVD),用于下一代纳米器件
机译:脉冲激光沉积HfO_2和Hf-铝酸盐薄膜用于高k栅极电介质应用的比较研究
机译:HF和Zr铝铝酸盐作为更换高k电介质的初步原理研究
机译:高级加工沉积Zr和Al掺入的高k电介质的可靠性研究
机译:石墨烯插层对HfO2介电可靠性的影响以及Ni / Gr / c-HfO2界面有效功函数的调制:第一性原理研究
机译:当量氧化层厚度小于10Å的Hf铝酸盐高k栅极电介质超薄膜的生长和表征