National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Laboratory for Advanced Optical Technology (LAOTEC), Tsukuba Central Research Site 4, 1-1-1 Higashi, Tsukuba-city, Ibaraki 305-8562, Japan;
机译:溅射功率对直流反应磁控溅射沉积氧化银薄膜晶体结构和光学性能的影响
机译:溅射功率对直流反应磁控溅射沉积的氧化银膜晶体结构和光学性能的影响*
机译:光学透射干涉法在二氧化钛溅射沉积涂层原位结构研究中的应用
机译:超高密度光学数据存储应用的溅射氧化银沉积物的研究
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:在1.55 µm波长范围内用于传感应用的多模光纤结构上沉积的溅射掺杂铝的氧化锌薄膜上产生有损模共振
机译:溅射铝掺杂氧化锌薄膜上的有损模式共振发电,用于在多模光纤结构上进行传感在1.55μm波长范围内的应用
机译:用于sUpER-RENs高密度光学数据存储应用的溅射氧化银沉积物的研究。