Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Germany;
Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Germany;
Institut fuer Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Germany;
Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Kaiserstrasse 12, 76131 Karlsruhe, Germany;
Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Kaiserstrasse 12, 76131 Karlsruhe, Germany;
Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Kaiserstrasse 12, 76131 Karlsruhe, Germany;
Silicon photonics; Echelle grating; modulator; e-beam; wavelength-division multiplexing;
机译:通过电子束光刻制造的可调谐分布式反馈激光光栅,用于电信应用
机译:使用兼容VLSI的倍半硅氧烷氢束电子束光刻工艺设计和集成致密集成的硅量子点
机译:用双层抗蚀剂工艺通过电子束光刻在硅中形成15 nm尺度的库仑阻挡结构
机译:硅光子界光栅的呼应光栅应用:电子束光刻在工艺流程中的集成和第一效果
机译:开发用于微/纳米光子学和电子学的三维光刻和化学光刻。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:使用VLsI兼容的氢倍半硅氧烷电子束光刻工艺设计和制造致密集成的硅量子点