Department of Electronics and Informatics, Ryukoku University, Seta, Otsu 520-2194, Japan;
rnDepartment of Electronics and Informatics, Ryukoku University, Seta, Otsu 520-2194, Japan;
silicon; etching; laser; surface; microstructure;
机译:通过两步湿化学蚀刻法获得的高质量织构ZnO:Al表面,用于薄膜硅太阳能电池
机译:通过激光辅助化学蚀刻在硅表面上形成的多边形凹坑
机译:通过激光辅助化学蚀刻在硅表面上形成的多边形凹坑
机译:用于纹理硅表面的激光辅助化学蚀刻
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:在啮齿动物模型中具有光滑表面的有机硅植入物与具有纹理表面的有机硅植入物相比具有更薄但更稠密的纤维化胶囊
机译:硅表面上的多边形凹坑,由激光辅助化学蚀刻产生