Institute of Industrial Science The University of Tokyo 4-6-1 Komaba Meguro-ku Tokyo Japan;
Institute of Industrial Science The University of Tokyo 4-6;
Mathematical model; Integrated circuit modeling; Hafnium oxide; Simulation; Semiconductor device modeling; Capacitors; Analytical models;
机译:各种温度下的固体液体实体液体和溶液的热力学平衡[Na + - HF0 - H + - F-HF2 - H2F3 - H2O]
机译:铁电阻尼对负电容铁电MOSFET动态特性的影响
机译:铁电超晶格中畴演化的异常静态和动力学特征
机译:铁电体Hf0的动力学特性研究
机译:研究溶胶-凝胶衍生的镧改性钛酸铅体系的结构,微结构,介电,铁电和泄漏特性。
机译:Pt / CaxSr1-xBi2Ta2O9 / Hf-Al-O / Si高性能铁电门场效应晶体管中铁电晶粒尺寸和取向的研究
机译:通过TEM /茎原位加热和偏置来研究原子分辨率的铁电域和域壁动力学
机译:激光烧蚀沉积铁电薄膜特性研究