"Inter-university Semiconductor Research Center (ISRC) and School of Electrical Engineering and Computer Science, Seoul National University, Korea;
机译:3-D SONOS闪存单元阵列晶体管的编程/擦除效率和保留特性的比较研究:从双栅极FET和FinFET到全栅FET的结构方法
机译:SONOS闪存的氧化物-氮化物-氧化物结构中的空穴陷阱的研究
机译:瞬时热激励超快擦除SONOS闪存的方法
机译:SONOS闪存中氧化物 - 氮化物氧化物擦除性能的厚度依赖性
机译:闪存可擦可编程只读存储设备中的热载流子效应。
机译:SONOS闪存中氮化物内电荷迁移抑制的研究
机译:高密度和低压可编程缩放Sonos非易失性存储器,用于字节和闪存型EEPROM