JenaWave Engineering Consulting Frfedrich-Schelflg-Str.11 07745 Jena Germany;
laser annealing; heating regime; heat dissipation; heat pulses; thermostress; thermally activated process; electrical activation; silicon;
机译:碳膜作为光吸收层的红外半导体激光退火对硅晶片中注入的硼原子的活化
机译:半导体中镓注入和短期退火的超导层
机译:电沉积前体的单秒激光退火CuInSe2半导体作为太阳能电池的吸收层
机译:激光退火碳和硼注入的SiGe外延层的IV和CV联合分析
机译:对III-V族化合物半导体的等离子退火(等离子沉积,硅氮化物,离子注入)进行俄歇电子和X射线光电子能谱研究。
机译:P和Al注入的4H-SiC外延层的激光退火
机译:吸收系数对非晶半导体层Nd激光退火的影响
机译:离子注入半导体的激光退火