CVD プラズマ中クラスタ雲によるクラスタのフィルタリング

摘要

低温薄膜形成法としてのプラズマCVD のrn重要性は近年益々高まっている．同時に複数rnの膜物性の独立制御への要求が強くなり，よrnり高度な成膜制御が求められている．CVD プrnラズマでは，一般にプラズマ中で原料の解離rnにより生成されたラジカルで成膜が進み，同rn時に成膜表面へのイオン入射により膜質の制rn御が可能である．また，表面反応は入射粒子rnの種類とフラックスに加えて表面温度に依存rnしている．さらに，通常は無視されているがrn膜質に大きな影響を与えるのが気相重合クラrnスタの膜への取り込みである．筆者らは，クrnラスタの膜への取り込み量をその場測定するrnとともに，その制御を実現し，クラスタ取りrn込みが膜質に大きな影響を及ぼすことを示しrnてきた [1-3]．これまでに，クラスタの取り込み量の制御方法として，クラスタに作用するガス粘性力，rn熱泳動力，静電力などを利用する方法，クラスタの表面への付着を利用するクラスタフィルタなどをrn開発してきた．本講演では，新たな制御法としてCVD プラズマ中に捕捉されたクラスタ雲をクラスタrnの捕集フィルタとして用いる方法を提案する．Fig.1 に示すように，適切なサイズ・数密度のクラスタrnをプラズマ中に捕捉することにより，この領域を通過するクラスタをサイズを選別して捕捉できる．rn動的なフィルタであり，フィルタのその場交換可能など他の方法にない，有用な特長を有している．