CVD プラズマ中クラスタ雲による クラスタのフィルタリング

摘要

低温薄膜形成法としてのプラズマCVD の 重要性は近年益々高まっている．同時に複数 の膜物性の独立制御への要求が強くなり，よ り高度な成膜制御が求められている．CVD プ ラズマでは，一般にプラズマ中で原料の解離 により生成されたラジカルで成膜が進み，同 時に成膜表面へのイオン入射により膜質の制 御が可能である．また，表面反応は入射粒子 の種類とフラックスに加えて表面温度に依存 している．さらに，通常は無視されているが 膜質に大きな影響を与えるのが気相重合クラ スタの膜への取り込みである．筆者らは，ク ラスタの膜への取り込み量をその場測定する とともに，その制御を実現し，クラスタ取り 込みが膜質に大きな影響を及ぼすことを示し てきた [1-3]．これまでに，クラスタの取り込み量の制御方法として，クラスタに作用するガス粘性力， 熱泳動力，静電力などを利用する方法，クラスタの表面への付着を利用するクラスタフィルタなどを 開発してきた．本講演では，新たな制御法としてCVD プラズマ中に捕捉されたクラスタ雲をクラスタ の捕集フィルタとして用いる方法を提案する．Fig.1 に示すように，適切なサイズ?数密度のクラスタ をプラズマ中に捕捉することにより，この領域を通過するクラスタをサイズを選別して捕捉できる． 動的なフィルタであり，フィルタのその場交換可能など他の方法にない，有用な特長を有している．