KLA-Tencor Corp., 160 Rio Robles, San Jose, CA 95134;
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KLA-Tencor Corp., 160 Rio Robles, San Jose, CA 95134;
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KLA-Tencor Corp., 160 Rio Robles, San Jose, CA 95134;
KLA-Tencor Corp., 160 Rio Robles, San Jose, CA 95134;
KLA-Tencor Corp., 160 Rio Robles, San Jose, CA 95134;
193nm; 32nm; 4X HP; 3X HP; reticle; defect; inspection; sensitivity; OPC; SRAF;
机译:Lasertec的光掩膜检测系统在灵敏度检查方面具有很高的评价
机译:用于VLSI光掩模制造的先进电子束写入系统和缺陷检查系统
机译:高级电子束写入系统和VLSI光掩模制造的缺陷检测系统
机译:Terascanxr:高灵敏度和吞吐量光掩模检查系统
机译:先进的外观检查系统(ADVISE):支持飞机表面远程外观检查的原型检查工作站。
机译:用于鉴定原发性多发性骨髓瘤细胞药物敏感性的器官型高通量系统
机译:用于自动IC光掩模检查系统的实验评估的测试掩模
机译:用于自动IC光掩模检测系统的实验评估的测试掩模。