Dept. of VLSI System Design, Ritsumeikan Univ. (Japan) Noji-Higashi, Kusatsu, Shiga 525-8577, Japan;
EB direct write; EB lithography; character projection; cell projection; block exposure; standard cell. mask layout;
机译:设计流动方法,用于设计CMOS封闭式布局 - 晶体管的标准 - 细胞库硬化
机译:用于标准单元布局设计的最佳去耦电容器尺寸和位置
机译:低功耗标准单元LSI实现的数据路径布局驱动设计
机译:用于高吞吐量字符投影EB光刻的字符构建标准单元布局技术
机译:三重图案光刻的版图分解。
机译:闭孔多发性房间隔缺损布局的器械闭合:不同的技术和长期的随访
机译:用于标准单元格布局的最佳隔板和终端盒放置器