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【24h】

Optimization of Deeply-etched Antireflective WaveguideTerminators by Space Mapping Technique

机译:空间映射技术优化深蚀刻抗反射波导终端

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摘要

A space mapping optimization technique is applied to the design of the deeply-etched antireflectivern(AR) waveguide terminators. An optimal design is obtained with only six iterations of FDTD simulation.
机译:将空间映射优化技术应用于深蚀刻抗反射(AR)波导终结器的设计。仅通过FDTD仿真的六次迭代即可获得最佳设计。

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