退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN101315431B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-11-23
原文格式PDF
申请/专利权人 东丽先端素材株式会社;
申请/专利号CN200710307601.7
发明设计人 金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;郑智薰;崔光辉;
申请日2007-12-29
分类号
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王海川
地址 韩国庆尚北道
入库时间 2022-08-23 09:08:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-11-23
授权
2009-01-28
实质审查的生效
2008-12-03
公开
机译: 抗反射膜的组合物,抗反射膜,抗反射膜的制备方法以及具有抗反射膜的基质
机译: 具有抗反射膜的抗反射膜,抗反射光透射窗材料和具有抗反射光的透射窗材料的滤光片
机译: 形成抗反射膜的方法,制造具有抗反射膜的光学组件的方法和具有抗反射膜的光学组件
机译:具有砂纸柔性雾霾/抗反射膜的高效和热可持续的Perovskite太阳能电池
机译:具有多孔硅抗反射膜的光电转换器的表面区域的微观结构的特征及激光辐射形成的N(+) - P结
机译:通过着色蚀刻的方法形成具有N〜+ -R转变和多孔硅的抗反射膜的光电转换器的半导体结构中的导电机构,通过着色蚀刻的方法形成
机译:300 GHz频段锥形抗反射膜对透镜表面反射的减少
机译:产生抗氢现象和测量抗氢特性的现象学。
机译:基于聚乙烯醇(PVA)聚合物形状记忆效应的自擦除纳米锥抗反射膜
机译:通过着色蚀刻方法形成的具有N- = SUP = - = / sup = -p-转换和多孔硅的抗反射膜的光电转换器的半导体结构的导电机构。通过着色蚀刻方法形成
机译:通过在光纤端面上使用抗反射表面结构减少硫属化物纤维中的菲涅耳损失