Moscow Engineering Physics Institute -State University, Moscow 115409, Russia;
high-k dielectrics; x-ray photoelectron spectroscopy; metal gate, work function engineering; nickel silicide; pulsed laser deposition;
机译:X射线光电子能谱研究了金属与氮掺杂的Ge_2Sb_2Te_5之间的界面处的费米能级钉扎
机译:由Outmando硬X射线光电子能谱研究的高k门堆叠结构中费米水平固定的起源
机译:用X射线光电子能谱和Kelvin探针测定石墨烯/ n型Si界面的肖特基势垒高度和费米能级不固定
机译:用原位X射线光电子能谱监测金属/高k接口的费米水平变化
机译:X射线光电子能谱法在低温下原位氧化研究铜,锡和铜锡金属间化合物
机译:原位和实验室X射线荧光(XRF)光谱法的发展与验证金属污染苔藓生物监测方法
机译:发行商注意事项:“用于副0.1μm互补金属氧化物半导体栅极氧化物堆叠的”HFO2 / SiO2接口的热稳定性:软X射线光电子能谱“的价带和定量核心水平研究”J。苹果。物理。 96,6362(2004)