机译:半导体制造过程控制中的反馈变量选择方法论-第2部分:反应性离子蚀刻的应用
机译:用于控制半导体制造过程的反馈变量选择方法论-第2部分:在反应性离子蚀刻中的应用
机译:半导体制造设备的控制:反应离子刻蚀机的实时反馈控制
机译:使用神经网络的反应离子蚀刻的实时反馈控制
机译:一种选择过程变量进行反馈控制并应用于反应性离子刻蚀的方法
机译:使用心灵控制来修改澳元的提示反应性:基于致命的复发预防对实时FMRI神经融合的影响以改变酒精使用障碍中的提示反应性:随机对照试验
机译:采用实时闭环控制降低反应离子刻蚀中的负载效应
机译:基于过程建模和原位传感器反馈的分子束外延和离子辅助反应蚀刻的先进半导体结构自适应控制。