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【24h】

titanium disilicide nanoislands on Si (001) surfaces

机译:Si(001)表面上的二硅化钛纳米岛

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摘要

Both common phases of titanium disilicide form islands on Si(001) surfaces.At temperatures up to about 850 deg C the C49 phase forms,with two related (4x4) reconstructions on (010) faces.At higher temperatures the C54 phase forms,with unreconstructed (110) faces.Current imaging tunneling spectroscopy reveals straight parallel fringes crossing flat C49 islands.By comparing with plan and cross sectional view TEM,and with Fourier analysis of STM images,it is possible to relate these fringes to the incommensurate TiSi_2(010)/Si(001) interface.
机译:硅化钛的两个公共相都在Si(001)表面上形成岛状结构。在高达约850摄氏度的温度下,C49相形成,在(010)面上形成了两个相关的(4x4)重构。在较高温度下,C54相形成了:未重建的(110)面。当前的成像隧穿光谱显示穿过平直的C49岛的笔直平行条纹。通过与平面图和横截面TEM比较,以及对STM图像进行傅立叶分析,可以将这些条纹与不相称的TiSi_2(010)相关联)/ Si(001)接口。

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