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【24h】

Structure and composition of metal-doped HfO_2 gate oxides in CMOS devices studied by high resolution STEM and EELS

机译：高分辨率STEM和EELS研究CMOS器件中金属掺杂HfO_2栅氧化物的结构和组成

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《Microscopy and microanalysis.;Microscopy and microanalysis.》||p.1892-1893|共2页
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J. Bruley; M.M. Frank; V. Narayanan; B. Mendis; M. Gass;
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中图分类显微镜;
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