FIB/EB複合リソグラフィーによるナノ光共振器の作製

摘要

光共振器は主にレーザー発振器の中核や光波長多重通信におけるコンポーネントとして利用されるフォトニックデバイスである．これを用いることで高 Q 値の光の透過や吸収など，高精度な光制御が達成可能であり，フォトニックナノデバイスとして微小デバイスへ利用することにより様々な応用が期待されている．本研究では，この光共振器構造の微小デバイス化のキーとなる新たな作製プロセスに関する研究を行った．