Naka Application Center, Naka Division, Hitachi High-Technologies Corporation, 882, Ichige, Hitachinaka-shi, Ibaraki 312-8504, Japan;
critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM); pattern profile; ArF photo resist; line edge roughness (LER);
机译:基于光学流型的运动估计算法分析顺序超声图像中的造影剂流型
机译:不同垂直图案的I类和II类受试者下颌横截面形态的比较:基于CBCT图像和统计形状分析
机译:基于模型的皮肤图像整体模式分类方法
机译:使用MPPC方法基于CD-SEM图像的模式形状估计
机译:用于磁共振图像鲁棒分割的统计估计和模式识别方法(医学成像)。
机译:不同垂直图案的I类和II类受试者下颌横截面形态的比较:基于CBCT图像和统计形状分析
机译:CD-SEM栅极图案底脚的三维形状估计