IBM Microelectronics, 2070 Route 52, Hopewell Junction, NY 12533;
scatterometry; XSEM; total Measurement uncertainty; TMU; TMU analysis; shallow trench isolation; STI; etch process development; SCD; spectroscopic CD;
机译:具有计量延迟的运行间控制的递推最小二乘估计及其在STI刻蚀过程中的应用
机译:增强的计量将改善塑料的设计和加工
机译:基于卷积神经网络的高斯过程回归的发展,以构建多阶段半导体过程中的新型概率虚拟计量
机译:利用基于散射测量技术的相移掩模蚀刻工艺开发
机译:用于基于Mueller矩阵光谱椭偏仪的散射法进行定向自组装构图的光学计量学。
机译:提高K12计划有效性的过程评估:美国国立卫生研究院的案例研究以建立妇女健康研究职业发展计划中的跨学科研究职业
机译:半导体蚀刻过程的多元统计过程控制工具的开发和基准测试:通过模型更新提高鲁棒性