Nanjing University of Posts and Telecommunications Department of Electronic and Optical Engineering Department of Microelectronics Nanjing China 210023;
Nanjing University of Posts and Telecommunications Department of Electronic and Optical Engineering D;
CMOS memory circuits; electrical conductivity transitions; electrical resistivity; random-access storage; space-charge-limited conduction;
机译:回忆件的切换层材料的选择:从传统氧化物到2D材料
机译:具有缺氧WO_X层和散热AlN缓冲层的透明多层电阻开关器件的耐久性和电阻稳定性
机译:通过在Ti / HfO2 / Pt电阻式开关存储器中插入超薄TiO2引起的可靠性/均匀性改善
机译:通过插入新颖的2D材料MXENE阻力开关装置的可靠性改进
机译:2D过渡金属碳化物(MXENES)的溶液加工和光学性能
机译:电阻开关器件中金属氧化物的薄膜沉积:锰矿薄膜中电阻开关的电极材料依赖性
机译:电阻开关器件中金属氧化物的薄膜沉积:锰矿薄膜中电阻开关的电极材料依赖性
机译:接触电阻以及材料和工艺变量对开关装置中接触电阻和接触可靠性的影响