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【24h】

Appearance Radii in Medial Axis Test Mask for Small Planar Chamfer Norms

机译:小平面倒角规范中介轴试验面罩的外观半径

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摘要

The test mask T_M is the minimum neighbourhood sufficient to extract the medial axis of any discrete shape, for a given chamfer distance mask M. We propose an arithmetical framework to study T_M in the case of chamfer norms. We characterize T_M for 3×3 and 5×5 chamfer norm masks, and we give an algorithm to compute the appearance radius of the vector (2,1) in T_M.
机译:测试掩模T_M是足以提取任何离散形状的内侧轴的最小邻域,对于给定的倒角距离掩模M.我们提出了一种算术框架在倒角标准的情况下研究T_M。我们将T_M表示为3×3和5×5倒角域,我们提供了一种算法,用于计算T_M中的向量(2,1)的外观半径。

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