Hokkaido University N14 W9 Sapporo 060-0814 Japan;
机译:球形表面上无定形氟碳聚合物薄膜的等离子体增强化学气相沉积($ a $ -C:F)
机译:氟碳薄膜等离子体化学气相沉积过程中CH,C3,CHF和CF2表面活性的比较
机译:低温等离子体化学气相沉积法生长非晶硅膜表面粗糙度演变的实验和理论研究
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:用于有源矩阵液晶显示器的非晶硅薄膜晶体管的等离子体增强化学气相沉积问题
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:等离子体增强化学气相沉积和溶剂法合成碳氟化合物多孔膜的孔隙率和介电常数
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。