copper; metallic thin films; plasma materials processing; sputter deposition; Cu; Zn; copper film growth; high-temperature effect; magnetic field variation; thin film sputtering; zinc substrate;
机译:与溅射铜膜相比,在因科镍合金涂覆的商用铜箔基材上催化剂辅助的碳纳米管垂直生长
机译:磁控溅射在(100)GaAs衬底上生长InAs_(0.3)Sb_(0.7)薄膜:生长条件对薄膜结构的强烈影响
机译:电感耦合等离子体辅助直流磁控溅射在未加热玻璃基板上金属氧化钛膜的金属溅射生长
机译:中空阴极溅射直流等离子体磁控管溅射对平板玻璃生长薄膜阳极效应的影响及不同条件下锌膜溅射铜膜的光学性能研究
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:水热处理对铜锌铁氧体溅射薄膜磁性能的影响