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ハイシリカゼオライトでのメチルシクロヘキサン異性体の 吸着挙動

机译:高硅沸石中甲基环己烷异构体的吸附行为

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摘要

水素エネルギーキャリアとして,メチルシクロヘキ サン(MCH)-トルエン相互変換系が有望視されてい る1).触媒反応によってMCH から水素とトルエンを 取り出す際に,MCH の異性化等の副反応も起こり,ジメチルシクロペンタン(DCP)やエチルシクロペン タン(ECP)などの副生物が微量に生成する.これら が,トルエンの繰り返し使用に際して系内に少しずつ 蓄積するため,副生物を選択的に除去する手法が望ま れている. ECP 分子(約0.62 nm)はMCH(約0.68 nm)よりわ ずかに小さいため,ゼオライトの分子ふるい作用によ りECP の選択的な除去が期待できる.Silicalite-1(MFI topology)は酸素10員環ミクロ孔(0.51×0.55 nm; 0.53 ×0.56 nm)を有し,その細孔径はMCH の分子径と同 程度であるものの,silicalite-1細孔内でのシクロヘキサ ンの拡散係数は10~(-15)m~2 s~(-1)以下と非常に小さい値とな る事実をふまえると2),本系でもミクロ孔内への拡散 の速度差を利用する分離能が期待できる.そこで本研 究では,ECP/MCH 混合系へのゼオライトの分子ふる い作用を調べるために,様々なハイシリカゼオライト,とりわけ粒子径の異なるsilicalite-1を吸着材料として MCH ないしECP の吸着等温線を測定し,その吸着挙 動について解析した.
机译:作为氢能量载体,甲基环己己(MCH) - 甲苯互连系统是可见的1)。当催化反应从MCH取出氢和甲苯时,也发生诸如MCH的异构化的副反应,并且副产物如二甲基环戊烷(DCP)和乙基环戊烷(ECP)产生痕量。由于在重复使用甲苯期间,这些在系统中积累的几乎没有少量,因此需要选择性地除去副产物的方法。由于ECP分子(约0.62nm)略小于MCH(约0.68nm),因此通过沸石的分子筛作用,可以预期ECP的选择性去除。硅藻土 - 1(MFI拓扑)具有氧气10-元碳化物(0.51×0.55nm; 0.53×0.56nm),其孔径大致与MCH的分子直径大致相同,但在硅沸石-1孔隙中的扩散环己烷的系数为10至(-15)m至2 s至(-1)或更小,事实是它非常小的是2),在该系统中也将扩散到微孔中的速度可以预期使用差异。因此,在该研究中,为了研究沸石的分子筛到ECP / MCH混合系统,各种高硅沸石,特别是硅沸石,硅胶-1具有不同的粒径,以及测量其吸附材料的MCH或ECP的吸附等温线并分析其吸附行为。

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