Sputtering; Discharges (electric); Substrates; Cadmium; Tellurium; Magnetic films;
机译:直流磁控溅射,脉冲直流磁控溅射和阴极电弧蒸发沉积的Ti膜的结构和性能
机译:用于金属氧化物半导体器件的直流反应磁控溅射ZrO_2薄膜的结构,电学和介电性能
机译:室温下通过直流磁控溅射沉积的铟锌氧化物半导体薄膜
机译:采用直流磁控溅射法制备半导体薄膜
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:直流磁控溅射过程中衬底偏置对VO2薄膜质量及其绝缘体-金属过渡行为的影响
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究