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配位不飽和マンガン(II)·鉄(II)シリル錯体の合成と反応

机译:配位不饱和锰(II)·铁(II)甲硅烷基复合物的合成与反应

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摘要

当研究室ではこれまで、有機ケイ素配位子が遷移金属中心に対し高い電子供与性と 強いトランス影響を与えることに注目し、有機ケイ素配位子を有する高反応性錯体の 開発と触媒への応用を行ってきた。実際に、ケイ素アニオンと FeBr2との反応により 合成した配位不飽和鉄シリル錯体は、カルボニル化合物のヒドロシリル化反応や窒素 の還元的シリル化反応に高い触媒活性を示すことを見出した。
机译:在我们的实验室中,我们已经注意到有机硅配体的重点是具有高电子供体和对过渡金属中心的强反应性和强高反应性复合物的开发和催化剂,与我们所施加的有机硅配体的显影和催化剂。事实上,已经发现通过硅阴离子的反应与FeBR2合成的配位不饱和熨斗甲硅烷基团,用于氢化硅烷化反应和羰基化合物的氮化还原甲硅烷基化反应的高催化活性。

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