ゾル－ゲル法と転写によりプラスチック基板上に 作製されるセラミック薄膜の柔軟性に関する基礎的研究

摘要

演者らは最近、ゾル－ゲル法により作製されるセラミック薄膜をプラスチック基板上に転写する技 術を開発した1,2) 。この技術は、Si(100)基板上に剥離補助層として有機高分子薄膜を作製し、その上にゾル－ ゲル法によりセラミック薄膜を作製し、プラスチック基板と熱的に融着させて転写するというものである。 このようにしてプラスチック基板上に作製されるセラミック薄膜をフレキシブルデバイスとして使用する場 合、セラミック薄膜がどの程度の柔軟性をもつか、つまり、亀裂の発生を伴うことなくセラミック薄膜をど の程度曲げることができるかが問題となる。そして、柔軟性にはセラミック薄膜の諸特性が影響を及ぼすも のと推察される。本研究ではセラミック膜の厚さと緻密さに着目し、ゾル－ゲル法と転写によりプラスチッ ク基板上に作製されるセラミック薄膜の柔軟性(亀裂発生傾向)に及ぼすこれらの影響を調査した。