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【24h】

ガラス研磨における酸化セリウムの代替砥粒開発

机译:玻璃抛光中氧化铈的替代磨料

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摘要

通常ガラス加工における最終仕上げには,高品位仕上げ面や高い研磨能率が得られることから酸化セリウム砥粒の遊離砥粒を用いた研磨加工技術が広く用いられている.その砥粒の金属成分がセリウム(Ce)であり,これは代表的な希土類金属(レアアース)の一つである.日本はその大部分を輸入していることから酸化セリウム砥粒の使用量低減技術やその代替砥粒の開発が強く要望されている.著者らはこれまでに化学援用による研磨特性の研究開発を行っており,酸化セリウム砥粒の使用料低減および代替技術としての可能性などを報告している.本研究では,従来の酸化セリウム砥粒の研磨特性に対し,酸化ジルコニウム砥粒を用いて種々の添加材を加えて研磨スラリーの調整と実験を行いながらその研磨特性を調べた.その結果について報告する.
机译:玻璃加工中的最终饰面广泛用作高质量的精加工和高抛光能力率,从而广泛使用使用氧化铈磨粒的自由磨粒的抛光加工技术。磨料谷物的金属部件是Ce(Ce),是代表性稀土金属(稀土)之一。由于日本进口到其中大部分,因此强烈需要使用氧化铈磨粒和替代磨粒的发展。作者曾经通过化学载体进行了研究和开发抛光特性,并报道了氧化铈磨粒的制造和作为替代技术的潜力。在该研究中,将各种添加剂加入到常规氧化铈磨粒的抛光性质中,并加入各种添加剂以确定抛光特性,同时调节和试验抛光浆料。报告结果。

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