机译:控制原子层表面缺陷产生和化学反应的中性束工艺
机译:临界原子级处理技术:远程等离子体增强原子层沉积和原子层蚀刻
机译:基于通过原子层沉积,O_2等离子体工艺和退火工艺可控制壁厚的ZnO纳米管的乙醇传感器
机译:控制等离子体加工中的原子层反应
机译:多尺度计算流体动力学模型热和等离子体原子层沉积:腔室设计和过程控制的应用
机译:寡脱氧核糖核苷酸单层的受控负载到未氧化的晶体硅上;基于荧光的表面覆盖率和杂交效率测定;原子力显微镜对过程进行并行成像
机译:纳米干法工艺的进展和前景:我们如何控制原子层反应?
机译:由原子层逐层FORCE(柔性氧化物反应控制外延)产生的三层约瑟夫森结。总结报告