SiC coating layer; halogen-free precursor; chemical vapor deposition; HMDS;
机译:在流化床反应器技术中通过化学气相沉积将铝和硅共沉积,作为莫来石保护涂层的前体
机译:纳米晶碳化硅薄膜的流化/填充床化学气相沉积使用无卤单源
机译:用六甲基二咪唑胺前体通过化学气相沉积制备碳化硅涂层
机译:流化床化学气相沉积使用无卤素前体制备碳化硅涂层
机译:硬质合金切削刀具上碳化钽/碳化钛/氧化铝/氮化钛多层涂层的化学气相沉积。
机译:逆扩散化学气相沉积法合成碳化硅膜的透气性能
机译:使用硅烷和四甲基硅烷沉积在流化床中的颗粒上的碳化硅涂层:可行性研究
机译:使用硅烷和四甲基硅烷在流化床中沉积碳化硅涂层:可行性研究