DC pulse magnetron sputtering; reactive sputtering; annealing; XRD; vanadium oxide;
机译:放电功率和退火温度对脉冲直流磁控溅射制备铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:氮气流量对脉冲直流磁控溅射制备Zr-N薄膜的微观结构和纳米力学性能的影响
机译:钒氧化物薄膜的反应性脉冲DC磁控溅射沉积:脉冲频率对膜生长和性能的作用
机译:氧气流速与退火后DC脉冲磁控溅射制备的氧化钒薄膜的影响
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:TiO2光催化薄膜的高速低温直流脉冲磁控溅射:重复频率的影响
机译:脉冲直流反应磁控溅射二氧化钒热致变色薄膜