resist materials; molecular simulation; molecular dynamics; inhomogeneity; PAG distribution;
机译:用于EUV和EB光刻的PAG胶粘剂的PAG研究
机译:分子动力学模拟研究甲基丙烯酸酯型EUV光刻胶膜中光产酸剂的不均匀性
机译:分子动力学模拟研究抗蚀膜中PAG的不均匀性
机译:混合型EUV光刻胶系统中PAG的不均匀性通过EUV光刻的分子动力学模拟研究
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:EUV和EB光刻PAG粘结抗蚀剂的PAG研究