TiO_2; thin film; LTAVD; MIS structure;
机译:低温电弧气相沉积法制备以TiO〜2薄膜为绝缘体层的Pd / TiO〜2 / Si MIS结构
机译:退火对低温电弧气相沉积TiO_2薄膜特性的影响
机译:生长温度对TiCl_4-H_2O和TiCl_4-O_3原子层沉积工艺中高介电常数TiO_2薄膜结构和电性能的影响
机译:使用TiO_2薄膜的Pd / TiO_2 / n-Si MIS结构的制造和电学表征作为低温电弧沉积工艺沉积的绝缘层
机译:通过金属有机化学气相沉积相选择合成Tl-Ba-Ca-Cu-O薄膜和多层结构。工艺优化,相变,电学表征和微结构发展。
机译:具有稳健的Zn-O薄膜晶体管双层异质结构设计和低温制造工艺使用真空和溶液沉积层
机译:结构和工艺对用于稳定水氧化n-Si / TiO_2 / Ni光阳极的TiO_2保护层行为的影响