Atomic layer deposition; ozone; aluminum oxide; Si surface passivation;
机译:用POX中间层的原子层沉积Al2O3有效表面钝化
机译:详细研究臭氧基原子层沉积的AlO_X的界面性质对晶体硅表面钝化的影响
机译:臭氧基原子层沉积沉积的Al2O3 / ZrO2层压膜的特性用于有机器件封装
机译:基于臭氧的批量原子层沉积Al2O3,用于有效表面钝化
机译:用于高k电介质和存储器应用的原子层沉积Al2O3和TiO2
机译:a-Si:H(i)/ Al2O3表面钝化堆栈中原子层沉积的Al2O3膜的氧化前体依赖性
机译:臭氧基批处理原子层沉积的Al2O3用于有效的表面钝化
机译:用于射频mEms电容开关的替代介电薄膜,使用原子层沉积的al2O3 / ZnO合金沉积