directed self assembly; block copolymers; line edge roughness; lithography; X-ray scattering;
机译:纳米压印光刻技术制备的纳米图案POSS衬底上的聚苯乙烯嵌段聚二甲基硅氧烷嵌段共聚物大面积定向自组装的软石墨外延
机译:在干燥后蚀刻线和嵌段共聚物光刻的空间模式下的三维线边缘粗糙度
机译:添加剂对嵌段共聚物光刻中界面宽度和线边缘粗糙度的影响
机译:定向自组装PS-PMMA块共聚物的线边缘粗糙度 - 未来光刻的候选者
机译:先进光刻的嵌段共聚物定向自组装的计算研究。
机译:通过自组装形成层状聚苯乙烯嵌段聚(二甲基硅氧烷)二嵌段共聚物通过纳米压印光刻技术制备的纳米图案。
机译:氧化物的直接图案化:从纳米压印光刻到嵌段共聚物的自组装