AZO film; radio frequency magnetron sputtering; substrate temperature; sputtering power.;
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:底物温度对透明导电氢和钒共掺杂ZnO膜的结构,电和光学性质的影响,通过射频磁控溅射制造的
机译:衬底温度对射频磁控溅射纳米结构ZnO薄膜性能的影响
机译:溅射功率和衬底温度对Al_2O_3掺杂ZnO膜性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:ZnF2掺杂的ZnO靶在不同溅射衬底温度下沉积F掺杂的ZnO透明薄膜
机译:溅射功率和衬底温度对Al2O3掺杂ZnO薄膜性能的影响